化學(xué)機械拋光（CMP）設(shè)備應(yīng)用提案
| CMP設(shè)備在轉(zhuǎn)臺上使用多個擺臂機構(gòu)，比如將如拋光墊修整器等移動到位的機構(gòu)。 下面我們將為您介紹CMP機械臂機構(gòu)的課題解決方案！ |
機械臂機構(gòu)及主要驅(qū)動源
為保證在整個晶圓上均勻分配適量的材料，CMP工藝在材料去除過程中施加不同的力，并精確停止。
因此，為擺臂機構(gòu)提供精確定位控制非常重要，合理的選用響應(yīng)快速的驅(qū)動源，以避免拋光過多的基材。
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實現(xiàn)節(jié)省空間、低成本的多軸/薄型驅(qū)動器（最多支持4軸）
?SSCNETⅢ/H是三菱電氣株式會社的注冊商標(biāo)。
?MECHATROLINK是MECHATROLINK協(xié)會的注冊商標(biāo)。
?EtherCAT®是德國倍福自動化有限公司授權(quán)使用的注冊商標(biāo)。
備有可對應(yīng)SSCNETⅢ/H、MECHATROLINK-Ⅲ、EtherCAT的產(chǎn)品。
軸數(shù) ： 雙軸、3軸、4軸
*其中“薄型（4軸）“詳情還請聯(lián)絡(luò)客戶咨詢中心或距離您最近的銷售點（?點此查看各銷售點聯(lián)絡(luò)方式）
?SSCNETⅢ/H是三菱電氣株式會社的注冊商標(biāo)。?MECHATROLINK是MECHATROLINK協(xié)會的注冊商標(biāo)。
?EtherCAT®是德國倍福自動化有限公司授權(quán)使用的注冊商標(biāo)。
注意：
本資料僅供參考。選購前請仔細(xì)確認(rèn)設(shè)備需求和產(chǎn)品規(guī)格。
如需幫助，請洽詢本公司客戶咨詢中心（電話：400-820-6516）。
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